在平面机构中,一个高副引入二个约束。 ( )A. 正确B. 错误

考查要点：本题主要考查学生对平面机构中高副约束数量的理解，需明确高副与低副在约束引入上的区别。

解题核心：

• 高副是点或线接触的运动副（如齿轮啮合、凸轮接触），每个高副引入1个约束。
• 低副是面接触的运动副（如转动副、移动副），每个低副引入2个约束。
  题目中将高副的约束数误认为与低副相同，需通过基本概念判断正误。

关键概念辨析

1. 高副的约束特性：
   高副通过点或线接触限制构件间的相对运动，但仅能消除一个自由度（例如齿轮啮合时，两轮的相对转动被约束，但平移自由度仍存在）。因此，每个高副引入1个约束。
2. 低副的约束特性：
   低副通过面接触限制构件间的相对运动，同时消除两个自由度（例如转动副限制两个平移自由度）。因此，每个低副引入2个约束。

题目判断

题目中“高副引入二个约束”混淆了高副与低副的约束数量，正确结论应为高副引入1个约束，因此答案为错误。