9砷化镓的湿法刻蚀腐蚀液是磷酸。A. 正确B. 错误

考查要点：本题主要考查对砷化镓湿法刻蚀常用腐蚀液的了解，需明确其实际使用的化学试剂与题目描述是否一致。

解题核心：湿法刻蚀中，不同半导体材料对应的腐蚀液不同。砷化镓作为III-V族化合物半导体，其刻蚀液通常需要特定的酸性混合溶液（如含氧化剂的酸性环境），而非单一的磷酸。

关键点：磷酸常用于硅的刻蚀，但砷化镓的刻蚀需更复杂的化学体系（如含H₂O₂、HNO₃等），因此题目描述错误。

湿法刻蚀的基本原理：通过化学反应选择性地去除目标材料，需根据材料性质选择腐蚀液。

砷化镓的刻蚀特点：

1. 砷化镓易与强酸反应，但直接使用单一酸（如磷酸）可能无法有效控制反应速率。
2. 实际工艺中，常用含氧化剂（如H₂O₂）的酸性混合液，例如磷酸与过氧化氢的组合，或硝酸与氢氟酸的混合液。
3. 题目中仅提到“磷酸”，未说明必要添加成分，因此描述不准确。

结论：题目将砷化镓的腐蚀液简化为“磷酸”不符合实际工艺，故答案为错误。