铁氰化钾氧化还原峰峰电流ip与铁氰化钾浓度c及电势扫描速度v之间的关系分别为( )。A. ip与c和v均成正比;B. ip与c和v1/2成正比;C. ip与c1/2和v成正比;D. ip与c1/2和v1/2成正比

本题考查电化学中氧化还原峰峰电流与浓度、电势扫描速度的关系，核心在于理解扩散控制条件下峰电流的公式。关键点在于：

1. 浓度c的影响：浓度越高，反应物浓度梯度越大，峰电流与浓度成正比。
2. 扫描速度v的影响：扫描速度越快，扩散层变薄，峰电流与扫描速度的平方根成正比。

步骤1：分析浓度c的影响

在扩散控制过程中，反应物的浓度梯度直接影响反应速率。峰电流ip与溶液中反应物的浓度c成正比，即：
$i_p \propto c$

步骤2：分析扫描速度v的影响

扫描速度v决定了电极表面的扩散层厚度。峰电流ip与扫描速度v的平方根成正比，即：
$i_p \propto \sqrt{v}$

步骤3：综合关系式

将两者结合，峰电流的表达式为：
$i_p = k \cdot c \cdot \sqrt{v}$
（其中k为比例常数）
因此，ip与c和v的平方根均成正比，对应选项B。