化学气相沉积是利用____的先驱反应物,通过原子分子间____反应的途径生成________薄膜的技术。第1空请输入合条

化学气相沉积（CVD）是一种重要的薄膜制备技术，其核心在于气态前驱体的化学反应。本题需明确三个关键点：

1. 先驱反应物的状态：CVD工艺中，反应物需以气态形式进入反应室，便于均匀分布。
2. 反应途径：通过化学反应生成目标物质，区别于物理沉积方法。
3. 产物状态：最终形成的薄膜为固态，沉积在基底表面。

第1空：先驱反应物的状态

化学气相沉积要求反应物以气态形式存在，因为气态分子更容易扩散到基底表面并参与反应。若反应物为液态或固态，难以均匀分布，无法实现高效沉积。

第2空：反应途径

CVD的核心是化学反应。气态前驱体在基底表面或基底附近发生化学键断裂与重组，生成目标物质。例如，甲烷（CH₄）在高温下分解生成碳（固态）和氢气（H₂）。

第3空：产物状态

反应生成的物质以固态薄膜形式沉积在基底上。例如，通过CVD法制备的硅基薄膜（如SiO₂、Si₃N₄）均为固态。