离子束加工主要是利用离子束射到材料表面时所发生的撞击效应、溅射效应和注入效应,以下主要是利用离子撞击和溅射效应的离子束加工种类有A. 离子注入B. 离子刻蚀C. 离子溅射沉积D. 离子镀

本题考查离子束加工的相关知识，解题思路是明确离子束加工中撞击效应、溅射效应和注入效应的概念，然后分析每个选项所利用的主要效应。

• 选项A：离子注入
  离子注入是将离子加速到一定能量，使其注入到材料内部，主要利用的是离子的注入效应，而不是撞击和溅射效应。其原理是通过高能离子束轰击靶材，离子进入靶材内部一定深度，改变靶材的物理和化学性质。所以选项A不符合要求。
• 选项B：离子刻蚀
  离子刻蚀是利用高能离子束轰击材料表面，离子与材料表面的原子发生撞击，使材料表面的原子获得足够的能量而脱离材料表面，从而实现材料的去除，主要利用了离子的撞击和溅射效应。其过程可以用简单的物理模型描述，离子的动能传递给材料表面原子，当表面原子获得的能量超过其结合能时，就会被溅射出去。所以选项B符合要求。
• 选项C：离子溅射沉积
  离子溅射沉积是先利用高能离子束轰击靶材，使靶材原子被溅射出来，然后这些被溅射出来的原子沉积在工件表面，形成薄膜。这个过程中，高能离子束轰击靶材的过程利用了离子的撞击和溅射效应，将靶材原子溅射出来，然后这些原子再沉积到工件上。所以选项C符合要求。
• 选项D：离子镀
  离子镀是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，将蒸发物或其反应物沉积在基体上。在这个过程中，离子对基体和蒸发源的轰击作用利用了离子的撞击和溅射效应，促进了沉积过程的进行。所以选项D符合要求。