下列结构单元中，质子化学位移最小的为A. Ar-HB. Ar-CH3C. H-C=OD. RCOOCH3

本题考查的知识点是不同化学环境中质子的化学位移大小比较。解题思路是根据各类质子所处的化学环境，分析其周围电子云密度的情况，因为电子云密度会影响质子所感受到的有效磁场强度，进而影响化学位移。电子云密度越高，质子受到的屏蔽作用越强，化学位移越小；反之，电子云密度越低，质子受到的去屏蔽作用越强，化学位移越大。

下面对每个选项进行详细分析：

• A选项：Ar - H
  芳环（Ar）具有大π键，电子云流动性较大，会产生环电流效应。芳环上的氢原子处于芳环的去屏蔽区，电子云密度相对较低，受到的去屏蔽作用较强，所以化学位移较大。一般芳环上氢的化学位移在$\delta = 7 - 8$左右。
• B选项：Ar - CH₃
  甲基（$-CH₃$）连接在芳环上，虽然芳环的电子云会对甲基有一定的影响，但甲基上的氢原子周围有较多的电子云，受到的屏蔽作用相对较强。与芳环上的氢相比，其电子云密度较高，所以化学位移较小。一般芳基甲基上氢的化学位移在$\delta = 2 - 3$左右。
• C选项：H - C = O
  羰基（$C = O$）是一个强吸电子基团，会使与之相连的氢原子周围的电子云密度显著降低。氢原子受到很强的去屏蔽作用，化学位移较大。一般醛基氢的化学位移在$\delta = 9 - 10$左右。
• D选项：RCOOCH₃
  酯基（$RCOO -$）中的羰基和醚键（$-O -$）都是吸电子基团，会使甲基上的氢原子周围的电子云密度降低，受到去屏蔽作用，化学位移比普通烷基氢要大。一般酯基甲基上氢的化学位移在$\delta = 3.7 - 4$左右。

综合以上分析，质子化学位移最小的是Ar - CH₃。