常见光学曝光的方式有:A. 接触式曝光B. 接近式曝光C. 投影式曝光D. 浸润式曝光

光学曝光是光刻工艺中的关键步骤，用于将掩模上的图案转移到光刻胶上。常见的光学曝光方式包括接触式曝光、接近式曝光和投影式曝光。接触式曝光是将掩模直接接触光刻胶进行曝光，接近式曝光是将掩模与光刻胶保持一定距离进行曝光，而投影式曝光则是通过光学系统将掩模上的图案投影到光刻胶上。浸润式曝光是投影式曝光的一种改进，通过在光学系统和光刻胶之间加入液体介质来提高分辨率，但不属于常见光学曝光方式。